申请/专利权人：ASML荷兰有限公司

申请日：2019-07-24

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN112840273B

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20

优先权：["20180815 EP 18189181.3"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.09#授权;2021.06.11#实质审查的生效;2021.05.25#公开

摘要：一种确定由辐射源照射的目标所散射的辐射的估计强度的方法，所述方法具有以下步骤：获取和训练402作为波长、目标结构参数和入射角的函数Rλ,θ,x,y的依赖于波长的反射率的库REFLIB；确定408在琼斯框架中在辐射源波长λ范围内的目标的依赖于波长的反射率R的积分的宽带库W‑BLIB；训练TRN410所述宽带库；以及使用训练后的宽带库来确定412由所述辐射源照射的目标所散射的辐射的估计强度INT。

主权项：1.一种确定由辐射源照射的目标所散射的辐射的估计强度的方法，所述方法包括，-在琼斯框架中在辐射源波长范围内确定所述目标的依赖于波长的反射率的积分的宽带库；-训练所述宽带库；以及-使用训练后的宽带库，确定由所述辐射源照射的目标所散射的辐射的估计强度。

全文数据：

权利要求：

百度查询： ASML荷兰有限公司 用于确定估计散射辐射强度的方法和量测设备

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