申请/专利权人：三菱电机株式会社;国立大学法人东京工业大学

申请日：2019-04-23

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN113710610B

主分类号：C01B3/26

分类号：C01B3/26

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.09#授权;2021.12.14#实质审查的生效;2021.11.26#公开

摘要：气体制造系统具备：具有形成被处理气体8的流路9的反应器2、施加有电压的第一电极3和第二电极4、和配置于流路9且包含催化剂的催化剂层5的气体制造装置；产生对第一电极3和第二电极4施加的电压的电压产生单元12；和将被处理气体8供给至气体制造装置的气体供给单元，电压产生单元12具有根据被处理气体8设定电压的频率的频率设定单元13，将在第一电极3与第二电极4之间产生的等离子体照射至催化剂层5，将被处理气体8改性以得到生成气体11。

主权项：1.一种气体制造系统，是对催化剂照射等离子体、将被处理气体改性以制造生成气体的气体制造系统，具备：产生电压的电压产生单元；使用利用所述电压产生单元产生的电压产生对所述催化剂进行照射的等离子体的等离子体产生单元；和根据所述被处理气体设定所述电压的频率的频率设定单元，其中，所述频率设定单元根据所述被处理气体在10kHz以上且1MHz以下的范围设定外部电源产生的电压的频率，使构成所述被处理气体的气体反应物质的分子振动激发，所述被处理气体为烃系的气体和氧化剂气体，所述生成气体为含氢气体。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 三菱电机株式会社;国立大学法人东京工业大学 气体制造系统和气体制造方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD