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【发明公布】纳米CMOS工艺下一种基于DICE版图交织加固单元的SRAM实现方法_中国人民解放军国防科技大学_202311255354.6 

申请/专利权人:中国人民解放军国防科技大学

申请日:2023-09-26

公开(公告)日:2024-04-05

公开(公告)号:CN117831586A

主分类号:G11C11/41

分类号:G11C11/41;H10B10/00;G11C11/413

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.23#实质审查的生效;2024.04.05#公开

摘要:本发明公开了纳米CMOS工艺下一种基于DICE版图交织加固单元的SRAM实现方法,包括SRAM结构,SRAM结构包括时钟控制模块、第一行译码器、第二行译码器、列译码器、第一存储阵列、第二存储阵列、第三存储阵列、第四存储阵列,第一存储阵列、第二存储阵列、第三存储阵列、第四存储阵列内均设置DICE单元,本发明提出了新的版图级加固方法:把两个DICE单元相互穿插,拉大敏感节点距离。大大降低了粒子轰击到多个敏感节点的造成多位翻转的概率;入射的角度改变会使得重粒子入射时轨迹经过了多个敏感节点,造成多个敏感节点翻转。此结构能使入射的角度改变造成的多个敏感节点翻转有效的恢复。

主权项:1.纳米CMOS工艺下一种基于DICE版图交织加固单元的SRAM实现方法,包括SRAM结构,其特征在于:所述SRAM结构包括时钟控制模块1、第一行译码器2、第二行译码器3、列译码器4、第一存储阵列5、第二存储阵列6、第三存储阵列7、第四存储阵列8,所述时钟控制模块1分别连接第一行译码器2和列译码器4,所述第一行译码器2分别连接第二行译码器3和第三行译码器9,所述列译码器分4别连接第一列选择器10和第二列选择器11,所述第一列选择器10连接第一存储阵列5,所述第二列选择器11连接第二存储阵列6,所述第三行译码器9分别连接第一存储阵列5和第二存储阵列6,所述第二行译码器3分别连接第三存储阵列7和第四存储阵列8。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国人民解放军国防科技大学 纳米CMOS工艺下一种基于DICE版图交织加固单元的SRAM实现方法

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