申请/专利权人：上海仪电显示材料有限公司

申请日：2019-11-25

公开（公告）日：2024-04-23

公开（公告）号：CN112946991B

主分类号：G03F1/00

分类号：G03F1/00;G03F1/70;G02F1/1335;G03F7/00

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.23#授权;2021.07.02#实质审查的生效;2021.06.11#公开

摘要：一种掩膜版图形的形成方法、掩膜版的制作方法、掩膜版以及滤光片，其中，掩膜版图形的形成方法包括：提供初始图形区，所述初始图形区包括多个有序排列的像素单元格图形；采用圆弧状边界线将所述初始图形区划分为显示区和非显示区，部分所述像素单元格图形跨越所述圆弧状边界线，跨越所述圆弧状边界线的所述像素单元格图形位于所述显示区的面积不相等。本发明实施例提供的掩膜版图形的形成方法，形成的掩膜版图形，使显示区和非显示区的边界呈圆滑的圆弧设计，圆弧形状更加自然，提高了显示屏幕的美观性。

主权项：1.一种掩膜版图形的形成方法，其特征在于，包括：提供初始图形区，所述初始图形区包括多个有序排列的像素单元格图形；采用圆弧状边界线将所述初始图形区划分为显示区和非显示区，部分所述像素单元格图形跨越所述圆弧状边界线，跨越所述圆弧状边界线的所述像素单元格图形位于所述显示区的面积不相等；所述像素单元格图形包括n个初始子像素图形，n为大于等于三的自然数，修改跨越所述圆弧状边界线的所述像素单元格图形内的所述初始子像素图形，得到修正子像素图形，同一所述像素单元格图形内的所述修正子像素图形位于所述显示区内的面积相等；得到修正子像素图形的方法包括：获取所述像素单元格图形内n个所述初始子像素图形的面积总和A1；获取所述像素单元格图形的面积A2；获取所述像素单元格图形位于所述显示区内的面积A3；计算所述像素单元格图形内所述修正子像素图形的面积总和S1，S1＝A1×A3A2；计算所述像素单元格图形内每个所述修正子像素图形的面积S2，S2＝S1；缩减所述初始子像素图形的大小，至所述初始子像素图形位于所述显示区内的面积为S2，得到所述修正子像素图形。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 上海仪电显示材料有限公司 掩膜版图形的形成方法、掩膜版的制作方法、掩膜版以及滤光片

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD