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【发明授权】掩膜版组件及掩膜版、蒸镀边界确认及蒸镀偏位校正方法_昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司_202111668671.1 

申请/专利权人:昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司

申请日:2021-12-30

公开(公告)日:2024-04-23

公开(公告)号:CN114381688B

主分类号:C23C14/04

分类号:C23C14/04;C23C14/24;C23C14/54

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.23#授权;2022.05.10#实质审查的生效;2022.04.22#公开

摘要:本申请涉及一种掩膜版组件及掩膜版、蒸镀偏位校正方法。掩膜版组件包括:多个第一掩膜版。第一掩膜版包括:第一本体以及设置于第一本体上的掩膜开口和边界标识开口。其中,掩膜开口用于制备有机材料图案。边界标识开口位于掩膜开口的边界外侧,用于制备边界标识。边界标识用于确定有机材料图案的边界。不同第一掩膜版中的掩膜开口相对于第一本体的位置相同,不同第一掩膜版中的边界标识开口相对于掩膜开口的位置不同。上述的掩膜版组件及掩膜版、蒸镀偏位校正方法,可以改善有机共通层蒸镀边界及蒸镀偏差难以有效界定的问题,从而提高AMOLED产品的工艺可靠性及生产良率。

主权项:1.一种掩膜版组件,其特征在于,包括:多个第一掩膜版;所述第一掩膜版包括:第一本体以及设置于所述第一本体上的掩膜开口和边界标识开口;其中,所述掩膜开口用于制备有机材料图案;所述边界标识开口位于所述掩膜开口的边界外侧,用于制备边界标识;所述边界标识用于确定所述有机材料图案的边界;其中,一个所述第一掩膜版用于形成一层有机共通层,不同所述第一掩膜版中的所述掩膜开口相对于所述第一本体的位置相同,不同所述第一掩膜版中的所述边界标识开口相对于所述掩膜开口的位置不同,以用于识别各所述有机共通层的边界。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 掩膜版组件及掩膜版、蒸镀边界确认及蒸镀偏位校正方法

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