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【发明公布】制造系统处的多级RF脉冲监测和RF脉冲化参数优化_应用材料公司_202280052730.9 

申请/专利权人:应用材料公司

申请日:2022-11-30

公开(公告)日:2024-04-05

公开(公告)号:CN117836895A

主分类号:H01J37/32

分类号:H01J37/32;H01L21/67

优先权:["20211209 US 17/547,117"]

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.04.05#公开

摘要:提供用于制造系统处的多级RF脉冲监测和RF脉冲化参数优化的方法和系统。射频RF信号依据一组RF脉冲化参数在处理腔室内被脉冲化。从一个或多个传感器接收传感器数据,所述传感器数据表明基于所述射频信号脉冲化在所述处理腔室内所检测的多级RF脉冲波形。识别在所检测的所述多级RF脉冲波形中的一个或多个峰。每个经识别的峰与所述处理腔室内的所述RF信号脉冲化的至少一个RF信号脉冲对应。基于经识别的所述一个或多个峰,确定所检测的所述多级RF脉冲波形是否与所述目标多级RF脉冲波形对应。向客户端设备提供对所检测的所述多级RF脉冲波形是否与所述目标多级RF脉冲波形对应的指示。

主权项:1.一种方法,包括以下步骤:依据一组RF脉冲化参数在制造系统的处理腔室内脉冲化射频RF信号,其中所述一组RF脉冲化参数对应于要由与所述处理腔室相关联的一个或多个RF产生器基于所述RF信号脉冲化在所述处理腔室内产生的目标多级RF脉冲波形;从与所述处理腔室相关联的一个或多个传感器,接收传感器数据,所述传感器数据表明基于所述RF信号脉冲化在所述处理腔室内所检测的多级RF脉冲波形;识别所检测的所述多级RF脉冲波形中的一个或多个峰,其中经识别的所述一个或多个峰中的每一者与所述处理腔室内的所述RF信号脉冲化的至少一个RF信号脉冲对应;基于经识别的所述一个或多个峰,确定所检测的所述多级RF脉冲波形是否与所述目标多级RF脉冲波形对应;和向与所述制造系统连接的客户端设备提供对所检测的所述多级RF脉冲波形是否与所述目标多级RF脉冲波形对应的指示。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 应用材料公司 制造系统处的多级RF脉冲监测和RF脉冲化参数优化

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