申请/专利权人：深圳华盛光刻系统有限公司

申请日：2024-01-30

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN117872674A

主分类号：G03F7/00

分类号：G03F7/00;G06F30/10;G06T17/00

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开

摘要：本发明提供了一种用于3D光刻制造景深镜头的消减应力方法，属于3D光刻工艺技术领域，解决了由于应力的存在制约了景深镜头的制造效果的问题；本发明包括以下步骤：S1支撑结构设计；S2控制层固化过程；S3层间应力释放；S4逐层冷却；S5实时监测与反馈。本发明能够有效消减在景深镜头制造中产生的应力，从而有助于提高制造的景深镜头形状准确度、结构稳定性和光学性能。

主权项：1.一种用于3D光刻制造景深镜头的消减应力方法，其特在于，所述方法包括以下步骤S1至步骤S5：步骤S1：支撑结构设计：利用CAD软件和有限元分析软件进行迭代优化，设计支撑结构；步骤S2：控制层固化过程：采用分层逐级固化策略，通过调节光强和曝光时间的方式来控制每一层光刻材料的固化；在光刻材料的固化过程中，采用调制固化系统，调制固化系统具有动态调整光强和曝光时间的功能；在光刻材料固化过程中，引入温度控制系统，温度控制系统布置在光刻机的固化室内部，紧贴固化区域，以确保固化过程中的工作环境温度T的稳定；步骤S3：层间应力释放：在每层固化后，采用对已固化层施加短暂热处理的应力释放措施，释放层间应力；步骤S4：逐层冷却：在每层固化和应力释放后，利用温度控制系统，逐步降低光刻区域的温度至室温；步骤S5：实时监测与反馈：采用监测反馈系统实时监控光刻过程中的应力分布和光刻材料的层间结构，以确保光刻质量和精度。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 深圳华盛光刻系统有限公司 一种用于3D光刻制造景深镜头的消减应力方法

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