申请/专利权人：南通越亚半导体有限公司

申请日：2023-12-26

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN117872685A

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20;H01L21/56

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开

摘要：本发明公开了一种提高SRO垂直度的方法及封装基板、电子设备、存储介质，涉及封装结构技术领域。该方法包括：获取待加工基板；在待加工基板的表面涂布绿油层；按照预设的贴附参数，在绿油层的预设位置贴附预设厚度的透明保护膜；透明保护膜的预设厚度根据曝光机的光源以及SRO的需求垂直度确定；对绿油层进行整平；曝光机利用光源对绿油层进行曝光，曝光过程中，透明保护膜对光源进行过滤，以提高SRO的垂直度；去除透明保护膜，对曝光后的绿油层进行显影，获得SRO。根据本发明实施例的提高SRO垂直度的方法，通过在绿油层上贴附透明保护膜，从而使得透明保护膜能够对曝光的光源进行过滤，进而提升SRO的垂直度。

主权项：1.一种提高SRO垂直度的方法，其特征在于，包括以下步骤：获取待加工基板；在所述待加工基板的表面涂布绿油层；按照预设的贴附参数，在所述绿油层的预设位置贴附预设厚度的透明保护膜；所述透明保护膜的所述预设厚度根据曝光机的光源以及SRO的需求垂直度确定；对所述绿油层进行整平；所述曝光机利用所述光源对所述绿油层进行曝光，曝光过程中，所述透明保护膜对所述光源进行过滤，以提高所述SRO的垂直度；去除所述透明保护膜，对曝光后的所述绿油层进行显影，获得所述SRO。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 南通越亚半导体有限公司 提高SRO垂直度的方法及封装基板

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