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【发明公布】包括具有图案的金属层的标准单元的集成电路及其制造方法_三星电子株式会社_202311144560.X 

申请/专利权人:三星电子株式会社

申请日:2023-09-05

公开(公告)日:2024-04-12

公开(公告)号:CN117878114A

主分类号:H01L27/02

分类号:H01L27/02;H01L27/088;H01L21/8234

优先权:["20221012 KR 10-2022-0130923"]

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.04.12#公开

摘要:一种包括标准单元的集成电路,该标准单元包括:金属层,包括沿第一水平方向延伸的图案和在第二水平方向上彼此间隔开的多个轨道;以及至少一个过孔,将金属层连接到该金属层的下部图案,其中,多个轨道包括多个单元轨道和一个配电网络PDN轨道,其中,单元图案形成在多个单元轨道上,并且PDN图案或布线图案形成在一个配电网络PDN轨道上,其中,第一图案与标准单元的单元边界间隔开第一长度,并且形成在多个单元轨道中的第一单元轨道上,并且其中,第二图案与标准单元的单元边界间隔开第二长度,并且形成在多个单元轨道中的第二单元轨道上。

主权项:1.一种集成电路,包括在第一水平方向上具有单元高度的标准单元,其中,所述标准单元包括:金属层,包括沿所述第一水平方向延伸的图案和在第二水平方向上彼此间隔开的多个轨道;以及至少一个过孔,将所述金属层连接到所述金属层的下部图案,其中,所述多个轨道包括多个单元轨道和至少一个配电网络PDN轨道,其中,单元图案形成在所述多个单元轨道上,并且PDN图案或布线图案形成在所述至少一个配电网络PDN轨道上,其中,第一图案与所述标准单元的单元边界间隔开第一长度,并且形成在所述多个单元轨道中的第一单元轨道上,并且其中,第二图案与所述标准单元的单元边界间隔开不同于所述第一长度的第二长度,并且形成在所述多个单元轨道中的第二单元轨道上。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 三星电子株式会社 包括具有图案的金属层的标准单元的集成电路及其制造方法

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