申请/专利权人：应用材料公司

申请日：2016-07-01

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN117867462A

主分类号：C23C14/56

分类号：C23C14/56;C23C14/34;C23C14/50

优先权：["20150703 IN 2029/DEL/2015"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开

摘要：本文提供处理配件及包含此处理配件的处理腔室的实施方式。在一些实施方式中，处理配件包括沉积环，所述沉积环被配置而设置在基板支撑件上，所述基板支撑件被设计为用于支撑具有给定宽度的基板，所述沉积环包含：环形带，所述环形带被配置为搁置在所述基板支撑件的下突出部分上；内唇，所述内唇从所述环形带的内缘向上延伸，其中所述内唇的内表面与所述环形带的内表面一起形成具有小于所述给定宽度的宽度的中央开口，并且其中所述环形带的上表面与所述内唇的上表面之间的深度是介于约24mm与约38mm之间；通道，所述通道设置在所述环形带的径向外侧；及外唇，所述外唇向上延伸且设置在所述通道的径向外侧。

主权项：1.一种处理配件，包括：沉积环，所述沉积环被配置而设置在基板支撑件上，所述基板支撑件被设计为用于支撑具有给定宽度的基板，所述沉积环包含：环形带，所述环形带被配置而搁置在所述基板支撑件的下突出部分上；内唇，所述内唇从所述环形带的内缘向上延伸，其中所述内唇的内表面与所述环形带的内表面一起形成中央开口，所述中央开口的宽度小于所述给定宽度，并且其中所述环形带的上表面与所述内唇的上表面之间的深度被配置为在使用期间累积沉积物；通道，所述通道设置在所述环形带的径向外侧；及外唇，所述外唇向上延伸且设置在所述通道的径向外侧，其中所述环形带的厚度从所述环形带的外缘到所述环形带的内缘不是保持恒定就是连续增大。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 应用材料公司 具有高沉积环及沉积环夹具的处理配件

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