申请/专利权人：光驰科技(上海)有限公司

申请日：2019-09-11

公开（公告）日：2024-04-23

公开（公告）号：CN110453199B

主分类号：C23C16/455

分类号：C23C16/455;B01D5/00;B01D46/00;B01D53/76;B01D46/681

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.23#授权;2019.12.10#实质审查的生效;2019.11.15#公开

摘要：本发明涉及薄膜制备技术领域，尤其涉及一种原子层沉积设备用工艺残余气体的过滤装置，其特征在于：所述过滤装置设置在原子层沉积真空腔体与用于抽吸所述原子层沉积真空腔体内工艺残余气体的真空干泵之间；所述过滤装置至少包括冷凝过滤装置以及反应过滤装置，所述冷凝过滤装置的入口与所述原子层沉积真空腔体相连接，出口与所述反应过滤装置的入口相连接，所述反应过滤装置的出口与所述真空干泵相连接。本发明的优点是：1可实现过滤99%的原子层沉积残余工艺气体；2大大的减少粉尘进入到干泵中，延长干泵的使用寿命。

主权项：1.一种原子层沉积设备用工艺残余气体的过滤装置，其特征在于：所述过滤装置设置在原子层沉积真空腔体与用于抽吸所述原子层沉积真空腔体内工艺残余气体的真空干泵之间；所述过滤装置至少包括冷凝过滤装置以及反应过滤装置，所述冷凝过滤装置的入口与所述原子层沉积真空腔体相连接，出口与所述反应过滤装置的入口相连接，所述反应过滤装置的出口与所述真空干泵相连接；所述冷凝过滤装置指的是真空冷凝罐，所述真空冷凝罐内设置有多重导流板构成气体通路，所述多重导流板相互交错布置；所述反应过滤装置指的是真空过滤罐，所述真空过滤罐连接有水补充罐，所述真空过滤罐内部设置有粉尘过滤器；所述水补充罐所提供的水蒸气与所述工艺残余气体在所述粉尘过滤器表面发生反应并生成于其表面。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 光驰科技(上海)有限公司 一种原子层沉积设备用工艺残余气体的过滤装置

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD