申请/专利权人：慈溪市上林电子科技有限公司

申请日：2024-03-13

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN117866269A

主分类号：C08J7/04

分类号：C08J7/04;C09D175/14;C09D7/62;C09D5/08;C09D5/14;C08L67/02

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开

摘要：本发明涉及防窥膜领域，具体是一种高耐候防窥膜及其制备工艺，防窥膜包含依次层合的基膜、防窥功能层、防护层；防窥功能层中通过限定透视单元、非透视单元的宽度及形状设计，使其交替形成百叶窗结构；合成具有自修复性的预聚体作为光固化涂料的基料，本发明中用生物基原料蓖麻油替代化工原料，通过酰胺化反应制备蓖麻油酰二乙醇胺，然后将其与异佛尔酮二异氰酸酯、端羟基聚二甲基硅氧烷合成中间预聚体，以二氨基二苯二硫醚为扩链剂，甲基丙烯酸羟乙酯、复合二氧化硅作为封端剂；先在纳米氮化硼上复合二氧化硅，得到杂化二氧化硅，然后接枝硼酸基共轭微孔聚合物，与1,2,6‑己三醇继续反应，生成含有动态硼酸酯键的复合二氧化硅。

主权项：1.一种高耐候防窥膜，其特征在于，包括自下而上依次设置的基膜（1）、防窥功能层（2）、防护层（3），所述防窥功能层（2）包括若干个透视单元（21）和非透视单元（22），所述透视单元（21）和非透视单元（22）依次交替设置形成百叶窗结构；防护层（3）由以下组分制备：光引发剂、自修复预聚体、溶剂、复合二氧化硅；所述防窥功能层（2）、防护层（3）由光固化处理得到。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 慈溪市上林电子科技有限公司 一种高耐候防窥膜及其制备工艺

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