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【发明公布】电容结构_中芯国际集成电路制造(上海)有限公司_202211228038.5 

申请/专利权人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司

申请日:2022-10-09

公开(公告)日:2024-04-12

公开(公告)号:CN117878089A

主分类号:H01L23/522

分类号:H01L23/522;H01L23/64;H10N97/00

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开

摘要:一种电容结构,所述电容结构包括:第一极板、中间绝缘层、第二极板;电极金属结构包括:多个电极金属段;第一插塞组包括:至少1个第一插塞;第二插塞组包括:至少1个第二插塞;沿所述第二方向H,至少1个所述第一插塞组位于相邻的2个所述第二插塞组之间,从而能够有效降低第一极板的连接电阻、缩短电流通道,能够有效提高所述电容结构的Q值;而且与不同插塞相连的电极金属段之间也能构成电容,能够有效提高所述电容结构的电容值。

主权项:1.一种电容结构,其特征在于,包括:第一极板,所述第一极板位于衬底上;中间绝缘层,所述中间绝缘层位于所述第一极板上;第二极板,所述第二极板位于所述中间绝缘层上;电极金属结构,所述电极金属结构位于所述第二极板上,所述电极金属结构包括:多个电极金属段,所述电极金属段沿第一方向延伸,多个所述电极金属段沿第二方向依次平行排列,其中所述第一方向和所述第二方向相互垂直;第一插塞组,包括:第一插塞,所述第一插塞贯穿所述第二极板和所述中间绝缘层,以连接所述第一极板和所述电极金属段;第二插塞组,包括:第二插塞,所述第二插塞连接所述第二极板和所述电极金属段;沿所述第二方向,至少1个所述第一插塞组位于相邻的所述第二插塞组之间。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 电容结构

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