申请/专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心

申请日：2020-03-19

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN111221135B

主分类号：G02B27/09

分类号：G02B27/09

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.12#授权;2020.06.26#实质审查的生效;2020.06.02#公开

摘要：本申请涉及激光偏振匀滑技术领域，公开了一种用于光束偏振匀滑的系统，包括：用于实现目标焦斑轮廓及强度分布匀滑的连续相位板、用于实现偏振分离的双轴晶体和聚焦透镜，连续相位板、聚焦透镜和双轴晶体沿光束入射方向依次排列设置。将经过连续相位板匀滑之后的光束在聚焦平面实现不同偏振态焦斑的空间分离，然后引入特殊角度的双轴晶体实现偏振调控，实现非相干叠加，可以进一步降低焦斑分布的对比度，实现光束匀滑的效果。本申请还公开了一种用于光束偏振匀滑的方法。

主权项：1.一种用于光束偏振匀滑的方法，其特征在于，包括：：光束依次经过用于光束偏振匀滑的系统的连续相位板、聚焦透镜和双轴晶体；用于光束偏振匀滑的系统包括：用于实现目标焦斑轮廓及强度分布匀滑的连续相位板、用于实现偏振分离的双轴晶体和聚焦透镜，所述连续相位板、聚焦透镜和双轴晶体沿光束入射方向依次排列设置，其中，所述光束依次经过连续相位板、聚焦透镜和双轴晶体后，得到的扩散的圆环半径R0＝A*Lf，其中，L为双轴晶体的长度，f为聚焦透镜的焦距；其中，ng为KGW晶体的第一主轴折射率，nm为KGW晶体的第二主轴折射率，np为KGW晶体的第三主轴折射率。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 用于光束偏振匀滑的系统和方法

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