申请/专利权人：应用材料公司

申请日：2019-02-25

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN111801767B

主分类号：H01J37/32

分类号：H01J37/32

优先权：["20180228 US 15/908,065"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.12#授权;2021.03.09#实质审查的生效;2020.10.20#公开

摘要：用于将射频RF功率供应至处理腔室的方法与设备。RF产生器经配置为具有能力以独立于参考频率由RF功率输出操作或使RF输出功率与参考频率同步。在频率位于解锁状态中时，使用时钟匀变改变RF输出功率的RF功率输出频率以与参考频率匹配。在RF功率输出频率到达参考频率时，RF功率输出可被锁定至参考频率。

主权项：1.一种将RF功率供应至处理腔室的方法，所述方法包含：在第一RF产生器中产生参考频率，所述参考频率被配置成由所述第一RF产生器输出以用作第二RF产生器的参考；将所述第一RF产生器的第一RF功率输出耦合至所述参考频率；以及在所述第一RF产生器的所述第一RF功率输出的第一输出频率不同于所述参考频率时，将所述第一RF产生器的所述第一RF功率输出与所述参考频率去耦，同时针对所述第二RF产生器维持所述参考频率的频率值。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 应用材料公司 用于频率产生器的共同激励的方法与设备

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