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【发明授权】衍射层析显微成像系统及方法_中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所_202010500979.4 

申请/专利权人:中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所

申请日:2020-06-04

公开(公告)日:2024-04-12

公开(公告)号:CN113758901B

主分类号:G01N21/45

分类号:G01N21/45;G01N21/01

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.12#授权;2021.12.24#实质审查的生效;2021.12.07#公开

摘要:本发明公开了衍射层析显微成像系统,包括:承载片,包括透明载片和反射膜,透明载片包括相对的第一表面和第二表面,第一表面用于承载样品,反射膜设置于第二表面上;光路组件,用于产生参考光以及照射样品的入射光,并对参考光、第一样品光和第二样品光进行合束;显微镜组件,用于使入射光通过而照射到样品背向第一表面的前表面和第一表面上,并且使第一样品光和第二样品光通过;成像组件,用于采集合束后的参考光、第一样品光和第二样品光的干涉图像。本发明还公开了采用了上述成像系统的衍射层析显微成像方法。本发明解决了在衍射层析术中,入射光只能扫描到样品朝向物镜的一侧表面,而无法扫描到样品背向物镜的一侧表面的问题。

主权项:1.一种衍射层析显微成像系统,其特征在于,包括:承载片,包括透明载片和反射膜,所述透明载片包括相对的第一表面和第二表面,所述第一表面用于承载样品,所述反射膜设置于所述第二表面上;光路组件,用于产生参考光以及照射所述样品的入射光,并对所述参考光、第一样品光和第二样品光进行合束;显微镜组件,用于使所述入射光通过而照射到所述样品背向所述第一表面的前表面和所述第一表面上,并且使第一样品光和所述第二样品光通过;成像组件,用于采集合束后的所述参考光、所述第一样品光和所述第二样品光的干涉图像;其中,所述入射光照射到所述样品的前表面时,所述入射光在所述样品的前表面上进行反射和或穿过所述样品的前表面而生成所述第一样品光;所述入射光照射到所述第一表面,且在所述反射膜上进行反射而照射到所述样品的背表面时,所述入射光在所述样品的背表面上进行反射和或穿过所述样品的背表面而形成所述第二样品光;在所述样品的前表面上进行反射而生成的所述第一样品光和或穿过所述样品的背表面而生成的所述第二样品光直接朝向所述显微镜组件;穿过所述样品的前表面而生成的所述第一样品光和或在所述样品的背表面上进行反射而生成的所述第二样品光在所述反射膜上反射后直接朝向所述显微镜组件。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 衍射层析显微成像系统及方法

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