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【发明授权】用于在等离子体增强化学气相沉积腔室中抑制寄生等离子体的设备_应用材料公司_201980033026.7 

申请/专利权人:应用材料公司

申请日:2019-05-20

公开(公告)日:2024-04-12

公开(公告)号:CN112136202B

主分类号:H01J37/32

分类号:H01J37/32;C23C16/505;C23C16/458

优先权:["20180608 US 62/682,557"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.12#授权;2021.06.29#实质审查的生效;2020.12.25#公开

摘要:本公开的实施例总体上涉及用于PECVD腔室的金属屏蔽件。金属屏蔽件包括基板支撑部分和轴部分。轴部分包括具有壁厚度的管状壁。管状壁具有嵌入其中的冷却剂通道的供应通道和冷却剂通道的返回通道。供应通道和返回通道中的各者是管状壁中的螺旋。螺旋供应通道和螺旋返回通道具有相同的旋转方向且彼此平行。供应通道和返回通道在管状壁中交错。通过在金属屏蔽件中交错的供应通道和返回通道,减小了金属屏蔽件中的热梯度。

主权项:1.一种金属屏蔽件,包括:金属板;金属空心管,所述金属空心管包括管状壁;以及冷却剂通道,所述冷却剂通道形成在所述金属板和所述金属中空管的管状壁中,所述冷却剂通道包含:供应通道,所述供应通道在所述金属板中具有平面螺旋图案且在所述金属中空管的所述管状壁中具有螺旋图案;和返回通道,所述返回通道在所述金属板中具有平面螺旋图案且在所述金属中空管的所述管状壁中具有螺旋图案,所述供应通道与所述返回通道在所述金属板和所述管状壁中交错。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 应用材料公司 用于在等离子体增强化学气相沉积腔室中抑制寄生等离子体的设备

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