申请/专利权人：东莞市晟悦半导体设备有限公司

申请日：2023-07-31

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN220767220U

主分类号：C25D17/02

分类号：C25D17/02;C25D21/12

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.12#授权

摘要：本实用新型涉及电镀技术领域，具体而言，涉及一种镀槽。镀槽包括阳极槽、阴极槽、隔膜及阳极；阴极槽位于阳极槽的上方，隔膜设置于阴极槽和阳极槽之间，且将阴极槽内的阴极液与阳极槽内的阳极液电导通；阳极容置于阳极槽内，且与外部电源的正极连接；阴极槽用于容置镀件，且镀件与外部电源的负极连接；其中，阳极槽相对的两侧分别设置有阳极液入口及阳极液出口；阴极槽相对的两侧分别设置有阴极液入口及阴极液出口，或，阴极槽的外周设置有阴极液环形入口及阴极液环形出口。该镀槽结构简单，并能够降低电镀的成本。

主权项：1.一种镀槽，其特征在于：所述镀槽包括阳极槽、阴极槽、隔膜及阳极；所述阴极槽位于所述阳极槽的上方，所述隔膜设置于所述阴极槽和所述阳极槽之间，且将所述阴极槽内的阴极液与所述阳极槽内的阳极液电导通；所述阳极容置于所述阳极槽内，且与外部电源的正极连接；所述阴极槽用于容置镀件，且所述镀件与外部电源的负极连接；其中，所述阳极槽相对的两侧分别设置有阳极液入口及阳极液出口；所述阴极槽相对的两侧分别设置有阴极液入口及阴极液出口，或，所述阴极槽的外周设置有阴极液环形入口及阴极液环形出口。

全文数据：

权利要求：

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