申请/专利权人：中国科学院光电技术研究所

申请日：2023-12-13

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN117894733A

主分类号：H01L21/683

分类号：H01L21/683

优先权：

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.04.16#公开

摘要：本公开提供一种动态静电吸盘及其制备方法，该动态静电吸盘自上而下依次包括：静电吸附模块1，包括介电层12、电极层13和基体14，介电层12上设有凸点阵列11，用于通过静电力吸附晶圆4；面型调节模块2，包括压电陶瓷驱动器阵列21，用于通过施加电压动态调控晶圆4的面型；底座3，用于承载静电吸附模块1和面型调节模块2，以及引出压电陶瓷驱动器阵列21的电极引线。本公开的动态静电吸盘在稳定吸附晶圆的同时可以实现对晶圆面型的精密控制。

主权项：1.一种动态静电吸盘，其特征在于，自上而下依次包括：静电吸附模块1，包括介电层12、电极层13和基体14，所述介电层12上设有凸点阵列11，用于通过静电力吸附晶圆4；面型调节模块2，包括压电陶瓷驱动器阵列21，用于通过施加电压动态调控所述晶圆4的面型；底座3，用于承载所述静电吸附模块1和面型调节模块2，以及引出所述压电陶瓷驱动器阵列21的电极引线。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国科学院光电技术研究所 动态静电吸盘及其制备方法

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