申请/专利权人：扬州万润光电科技股份有限公司

申请日：2024-01-22

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN117887353A

主分类号：C09D183/07

分类号：C09D183/07;C09D183/05;C09D5/20;C09D7/63;C08G77/385;C08J7/04;C08L67/02

优先权：

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.04.16#公开

摘要：本发明公开一种光固化离型剂、低剥离力高透光度离型膜及其制备方法，属于离型剂技术领域。光固化离型剂以下质量份原料制成：硅氧烷82–88％，其中己烯基聚二甲基硅氧烷占比为的60wt％以上，其余为含氢硅氧烷；含氟丙烯酸单体5–10％；催化剂0.1–2％；引发剂0.5–6％。所述光固化离型剂均匀涂布在基材上，在保护气氛下光照，得到离型膜。本发明制得的离型膜的常温24小时剥离力可以低于5g25mm，且具有大于90％的透光度和良好的均匀度。

主权项：1.一种光固化离型剂，其特征在于，包括以下质量份原料：硅氧烷82–88％，其中己烯基聚二甲基硅氧烷占比为60wt％以上，其余为含氢硅氧烷；含氟丙烯酸单体5–10％；催化剂0.1–2％；引发剂0.5–6％。

全文数据：

权利要求：

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