申请/专利权人：深圳奥拦科技有限责任公司

申请日：2023-12-11

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN117888091A

主分类号：C23C16/517

分类号：C23C16/517;C23C16/52

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.05.03#实质审查的生效;2024.04.16#公开

摘要：本申请公开了一种提升多层电极板镀膜均匀性的PECVD方法、装置及介质，其中方法包括：S10：将镀膜工艺层划分为n组，每组包括m层所述镀膜工艺层，其中m、n为正整数；S20：依次向第1、2、3、…、n组所述镀膜工艺层输出预设时间t的脉冲电压，以进行镀膜；S30：循环执行步骤S20直至完成镀膜。本申请公开的提升多层电极板镀膜均匀性的PECVD方法，通过对部分镀膜工艺层进行分别加工，避免了镀膜工艺层之间电磁波干涉而导致的镀膜均匀性降低，兼顾了生产效率与镀膜质量。

主权项：1.一种提升多层电极板镀膜均匀性的PECVD方法，其特征在于，包括：S10：将镀膜工艺层划分为n组，每组包括m层所述镀膜工艺层，其中m、n为正整数；S20：依次向第1、2、3、…、n组所述镀膜工艺层输出预设时间t的脉冲电压；S30：若未完成镀膜，则循环执行步骤S20。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 深圳奥拦科技有限责任公司 提升多层电极板镀膜均匀性的PECVD方法、装置及介质

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