申请/专利权人：易安爱富科技有限公司

申请日：2020-07-07

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN113073327B

主分类号：C23F1/18

分类号：C23F1/18;C23F1/26;C23F1/02;H01L21/306

优先权：["20200106 KR 10-2020-0001543"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.16#授权;2022.11.29#实质审查的生效;2021.07.06#公开

摘要：本发明涉及选择性地蚀刻用作TFT‑LCD显示器的电极的铜膜和含钼膜的蚀刻液组合物，根据本发明，可以提供铜膜和含钼膜的蚀刻液组合物，该蚀刻液组合物能够实现对铜膜和含钼膜的选择性的蚀刻，通过容易的蚀刻速度的控制，可以提供具有目标图案的直线性和锥角的金属配线，实现稳定的蚀刻轮廓，从而不仅可实现高处理张数，而且对大面积处理有效。

主权项：1.一种铜膜和含钼膜的蚀刻液组合物，其包含：10重量％～30重量％的过氧化氢，0.001重量％至0.09重量％的组分一，以及0.1重量％至10重量％的添加剂，并且以1:3～10:10～30的重量比包含所述组分一、组分二和组分三，并且包含使总重量成为100重量％的余量的水，所述组分一为有机磷化合物，所述有机磷化合物为甲基膦酸二甲酯、1-羟基亚乙基-1,1-二膦酸、乙二胺四亚甲基膦酸或2-羟基膦酰基羧酸，所述添加剂包含螯合剂和蚀刻抑制剂中的一者或两者，所述螯合剂为亚氨基二乙酸，所述蚀刻抑制剂为氨基四唑，所述组分二为氟化合物，所述氟化合物选自氟化铵、氟化钠、氟化钾、氟化氢铵、氟化氢钠和氟化氢钾，所述组分三为无机磷化合物，所述无机磷化合物为磷酸氢二铵。

全文数据：

权利要求：

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