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【发明授权】载置台和等离子体处理装置_东京毅力科创株式会社_201910358583.8 

申请/专利权人:东京毅力科创株式会社

申请日:2019-04-30

公开(公告)日:2024-04-16

公开(公告)号:CN110473759B

主分类号:H01J37/32

分类号:H01J37/32

优先权:["20180510 JP 2018-091438"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.16#授权;2021.03.05#实质审查的生效;2019.11.19#公开

摘要:本发明提供一种载置台和等离子体处理装置。提供使载置台的弯曲刚性提高、并且使载置台相对于支承构件的拆装容易性提高的技术。一种载置台,其载置基板,具有静电卡盘和载置所述静电卡盘的静电卡盘载置板,该静电卡盘具有基板的载置面,所述静电卡盘和所述静电卡盘载置板利用多个第1紧固件从所述静电卡盘载置板侧紧固,所述载置台利用多个第2紧固件在所述载置面的径向外侧从所述静电卡盘侧紧固于设置在所述静电卡盘载置板的与所述静电卡盘相反的一侧的支承构件。

主权项:1.一种载置台,其是载置基板的载置台,其中,该载置台具有:静电卡盘,其具有载置基板的载置面;以及静电卡盘载置板,其载置所述静电卡盘,所述静电卡盘和所述静电卡盘载置板利用多个第1紧固件从所述静电卡盘载置板侧紧固,所述静电卡盘利用多个第2紧固件在所述载置面的径向外侧从所述静电卡盘侧紧固于设置在所述静电卡盘载置板的与所述静电卡盘相反的一侧的支承构件,在所述静电卡盘与所述静电卡盘载置板之间具有用于向基板供给冷热传递用气体的气体流路。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 东京毅力科创株式会社 载置台和等离子体处理装置

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