申请/专利权人：武汉理工大学

申请日：2024-01-02

公开（公告）日：2024-04-19

公开（公告）号：CN117900489A

主分类号：B22F7/02

分类号：B22F7/02;G03B15/03;B22F3/14;B22F3/105;B22F3/10;B22F1/107;C23F1/28;C23F1/26;C23F1/44;B22F3/22;B22F3/24;B22F1/105;B22F3/11

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.05.07#实质审查的生效;2024.04.19#公开

摘要：本发明涉及一种梯度多孔钨及其制备方法，所述梯度多孔钨由数层多孔钨材料叠层复合得到，各层多孔钨材料孔隙分布均匀，孔隙率为25～81％，且从上至下各层多孔钨材料的孔隙率呈梯度连续变化。本发明提供的梯度多孔钨材料的孔隙率在较宽范围内可调，各层孔隙有序梯度变化且孔隙率控制精度高，在热沉材料、面向等离子体材料和高能闪光照相材料领域具有潜在应用价值。

主权项：1.一种梯度多孔钨，其特征在于，所述梯度多孔钨由数层多孔钨材料叠层复合得到，各层多孔钨材料孔隙分布均匀，孔隙率为25～81％，且从上至下各层多孔钨材料的孔隙率呈梯度连续变化。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 武汉理工大学 一种梯度多孔钨及其制备方法

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