申请/专利权人：杰米纳蒂奥公司

申请日：2022-08-25

公开（公告）日：2024-04-19

公开（公告）号：CN117916852A

主分类号：H01L21/027

分类号：H01L21/027;H01L21/3105;G03F7/004;G03F7/075;G03F7/09

优先权：["20210825 US 63/236,826"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.05.07#实质审查的生效;2024.04.19#公开

摘要：一种微加工方法，包括：提供具有现有图案的衬底，其中现有图案包括形成在基层内的特征，使得衬底的顶表面具有未被覆盖的特征并且基层未被覆盖；在衬底上沉积选择性附着剂，其中选择性附着剂包含溶解度转变剂；在衬底上沉积第一抗蚀剂；活化溶解度转变剂，使得第一抗蚀剂的部分变得不溶于第一显影剂；和使用第一显影剂对第一抗蚀剂进行显影，使得第一抗蚀剂的不溶于第一显影剂的部分得以保留。

主权项：1.一种微加工方法，包括：提供具有现有图案的衬底，其中所述现有图案包括形成在基层内的特征，使得所述衬底的顶表面具有未被覆盖的特征并且所述基层未被覆盖；在所述衬底上沉积选择性附着剂，其中所述选择性附着剂包含溶解度转变剂；在所述衬底上沉积第一抗蚀剂；活化所述溶解度转变剂，使得所述第一抗蚀剂的部分变得不溶于第一显影剂；和使用所述第一显影剂对所述第一抗蚀剂进行显影，使得所述第一抗蚀剂的不溶于所述第一显影剂的部分得以保留。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 杰米纳蒂奥公司 半导体图案化中的辅助特征放置

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