申请/专利权人：细美事有限公司

申请日：2020-12-11

公开（公告）日：2024-04-19

公开（公告）号：CN113066737B

主分类号：H01L21/67

分类号：H01L21/67

优先权：["20191213 KR 10-2019-0166795"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.19#授权;2021.09.17#实质审查的生效;2021.07.02#公开

摘要：本发明公开了一种用于蚀刻薄层的装置，包括：蚀刻剂供给单元，其构成为于基板上供给蚀刻剂以蚀刻形成在所述基板上的薄层；温度测量单元，其构成为在通过所述蚀刻剂执行蚀刻过程时测量所述基板的温度；激光照射单元，其构成为在包含所述基板的中央部分的第一部分上照射第一激光束，并且在围绕所述第一部分的第二部分上以环形照射第二激光束，从而在蚀刻过程中将所述基板的温度保持于预定温度；以及过程控制单元，其构成为基于由所述温度测量单元所测量的所述基板的温度来控制所述第一激光束和所述第二激光束的功率，以减小所述基板的所述第一部分和所述第二部分之间的温度差。

主权项：1.一种用于蚀刻薄层的装置，包括：蚀刻剂供给单元，其构成为于基板上供给蚀刻剂以蚀刻形成在所述基板上的薄层；温度测量单元，其构成为在通过所述蚀刻剂执行蚀刻过程时测量所述基板的温度；激光照射单元，其构成为在包含所述基板的中央部分的第一部分上照射第一激光束，并且在围绕所述第一部分的第二部分上以环形照射第二激光束，从而在蚀刻过程中将所述基板的温度保持于预定温度；以及过程控制单元，其构成为基于由所述温度测量单元所测量的所述基板的温度来控制所述第一激光束和所述第二激光束的功率，以减小所述基板的所述第一部分和所述第二部分之间的温度差，其中，所述蚀刻剂供给单元包括：蚀刻剂供给喷嘴，其构成为在所述基板的所述中央部分上供给所述蚀刻剂；喷嘴驱动部，其构成为在水平方向上移动所述蚀刻剂供给喷嘴；以及蚀刻剂加热部，其构成为于预定温度加热所述蚀刻剂；其中，所述激光照射单元设置在所述基板的所述中央部分的上方，并且所述蚀刻剂供给喷嘴通过所述喷嘴驱动部在所述基板与所述激光照射单元之间沿水平方向移动，其中，在将所述蚀刻剂以预定量供给到所述基板的所述中央部分之后，所述蚀刻剂供给喷嘴沿水平方向移动以与所述基板分隔开。

全文数据：

权利要求：

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