申请/专利权人:苏州华易达精密科技有限公司
申请日:2023-12-13
公开(公告)日:2024-04-26
公开(公告)号:CN117926372A
主分类号:C25D17/00
分类号:C25D17/00;C25D17/06;C25D7/12;C25D21/04;C25D21/10
优先权:
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2024.05.14#实质审查的生效;2024.04.26#公开
摘要:本发明提供了一种晶圆电镀夹持机构,包括:驱动装置;抵压装置,其通过传动组件与驱动装置传动相连;引流装置,其与抵压装置相互卡接;引流装置靠近抵压装置的一面设有置放晶圆的台阶,以使晶圆被抵压装置与引流装置夹持;引流装置远离抵压装置的一面上设有多条第一引流通槽,第一引流通槽从靠近晶圆一侧向引流装置的外边缘延伸。本发明通过夹持晶圆的引流装置及抵压装置的旋转运动,高效均匀地经引流通槽排除电镀过程中产生的气泡,确保晶圆电镀表面的均匀性;还具有在电镀过程中搅拌电镀溶液,维持电镀溶液与晶圆电镀面各个位置均匀接触的作用,降低电镀溶液中各部分浓度差异对电镀效果的影响。
主权项:1.一种晶圆电镀夹持机构,其特征在于,包括:驱动装置10;抵压装置20,其通过传动组件30与所述驱动装置10传动相连;引流装置40,其与所述抵压装置20相互卡接;所述引流装置40靠近抵压装置20的一面设有置放晶圆的台阶,以使晶圆被所述抵压装置20与引流装置40夹持;所述引流装置40远离抵压装置20的一面上设有多条第一引流通槽41,所述第一引流通槽41从靠近晶圆一侧向引流装置40的外边缘延伸,多条所述第一引流通槽41沿引流装置40的轴线呈圆周阵列排布。
全文数据:
权利要求:
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