申请/专利权人：NBD纳米技术公司

申请日：2019-05-24

公开（公告）日：2024-04-26

公开（公告）号：CN112218728B

主分类号：B05D3/04

分类号：B05D3/04;B05D3/10;C09D183/04;C09D5/16

优先权：["20180524 US 62/676,052"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.26#授权;2021.06.11#实质审查的生效;2021.01.12#公开

摘要：一种在基材上形成耐指纹涂料的方法，其包括通过暴露于等离子体来活化基材，然后在活化的基材上沉积烷基硅烷、POSS或其混合物。

主权项：1.一种耐指纹基材，其通过包括以下的方法制备：将用于耐指纹涂料的制剂施加到基材的表面上，其中所述的制剂包括下式的烷基硅烷：RA3SiRB，其中每个RA独立地为-OC1-C6烷基、-OC2-C6烯基或-OC2-C6炔基；RB为卤素取代的C11烷基；其中所述烷基硅烷不包括氟；以及其中所述耐指纹基材具有的ΔE小于0.7，其中所述耐指纹基材具有小于0.2的摩擦系数，并且其中耐指纹层的厚度在20nm至100nm之间。

全文数据：

权利要求：

百度查询： NBD纳米技术公司 隐形指纹涂料及其形成方法

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