申请/专利权人：财团法人纺织产业综合研究所

申请日：2022-12-02

公开（公告）日：2024-04-30

公开（公告）号：CN117942430A

主分类号：A61L27/34

分类号：A61L27/34;B01J19/08;A61L27/32;A61L27/28;A61L27/30;A61L27/50

优先权：["20221027 TW 111140963"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.05.17#实质审查的生效;2024.04.30#公开

摘要：本公开内容提供经由氢氧基磷灰石修饰的改质高分子聚合物层的制造方法，包含以下步骤：a提供高分子聚合物层；b使用大气冷等离子体装置等离子体活化丙烯酸，以对高分子聚合物层进行表面改质，获得丙烯酸修饰层；c将丙烯酸修饰层浸泡于包含钙离子的第一溶液中，获得含钙修饰层；以及d将含钙修饰层浸泡于包含磷酸盐的第二溶液中，获得经由氢氧基磷灰石修饰的改质高分子聚合物层。经由使用大气冷等离子体装置等离子体活化丙烯酸，简化制造时间、降低高分子聚合物层的损伤、以及提升氢氧基磷灰石修饰效率。

主权项：1.一种经由氢氧基磷灰石修饰的改质高分子聚合物层的制造方法，其特征在于，包含以下步骤：a提供高分子聚合物层；b使用大气冷等离子体装置等离子体活化丙烯酸，以对所述高分子聚合物层进行表面改质，获得丙烯酸修饰层；c将所述丙烯酸修饰层浸泡于包含钙离子的第一溶液中，获得含钙修饰层；以及d将所述含钙修饰层浸泡于包含磷酸盐的第二溶液中，获得经由所述氢氧基磷灰石修饰的所述改质高分子聚合物层。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 财团法人纺织产业综合研究所 经由氢氧基磷灰石修饰的改质高分子聚合物层的制造方法

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