申请/专利权人：罗门哈斯电子材料有限责任公司

申请日：2017-08-25

公开（公告）日：2024-04-30

公开（公告）号：CN117945957A

主分类号：C07C309/12

分类号：C07C309/12;C08F220/28;C08F220/18;G03F7/004;C07D303/40;C07D519/00;C07D333/76;C07C381/12;C07D335/16;C07D339/08;C07D327/08;C07D317/34;C07D317/72;C07D409/12;G03F7/027

优先权：["20160831 US 15/252,522"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.05.17#实质审查的生效;2024.04.30#公开

摘要：光酸生成化合物和相关聚合物，光致抗蚀剂组合物，和形成光致抗蚀剂浮雕图像的方法。提供了一种光酸生成化合物，其具有以下结构

主权项：1.一种光酸生成化合物，其具有以下结构 其中R1是R2是包含羟基、内酯基或其组合的C6-20多环烃基；或-[CH2n-Y-SO3-Z+]，其中n是0、1或2；Y是包含至少一个氟原子的C1-4亚烷基，其条件是当n是0时，Y是包含至少一个氟原子的C2-4亚烷基；并且Z+是有机阳离子；R3和R4各自独立地是氢、氰基、C1-6烷基、C1-6氟烷基、任选地经取代的C6-12芳基，或-COO-R11，其中R11是任选地包含一个或多个杂原子的C1-20烷基；并且Q是 其中R5和R6各自独立地是氢、氟、氰基、三氟甲基、C1-6烷基、包含内酯基的C6-20烃基，或-OR12，其中R12是C1-20烷基，或包含内酯基的C6-20烃基；以及X是-CH2-；其条件是所述光酸生成化合物包含存在恰好一个-[CH2n-Y-SO3-Z+]，存在1或2个包含羟基、内酯基或其组合的所述C6-20多环烃基，以及总共存在1、2或3个羟基和内酯基；并且其条件是当R5和R6是氢，并且R2是-[CH2n-Y-SO3-Z+]时，那么R1不包括COO-基团和-SO2-基团。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 罗门哈斯电子材料有限责任公司 光酸生成化合物和相关聚合物，光致抗蚀剂组合物，和形成光致抗蚀剂浮雕图像的方法

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