申请/专利权人：苏州维业达科技有限公司

申请日：2019-11-19

公开（公告）日：2024-04-30

公开（公告）号：CN112904664B

主分类号：G03F7/00

分类号：G03F7/00

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.30#授权;2023.05.23#著录事项变更;2021.07.20#实质审查的生效;2021.06.04#公开

摘要：本发明公开了一种微纳模具的制作方法，该制作方法包括：在基底上涂布一层导电光刻胶，导电光刻胶包括光刻胶和导电浆；对导电光刻胶进行化学刻蚀并形成具有图案的凹槽；在导电光刻胶上形成一层金属层，并在金属层上形成与凹槽对应的凸起；将金属层与导电光刻胶进行剥离并得到具有图案的微纳模具。该制作方法用于制作微纳模具，其步骤简单，制作周期短，制作效率高，微纳模具的外观品质好。本发明公开了一种微纳模具，该微纳模具通过如上所述的制作方法制成。

主权项：1.一种微纳模具的制作方法，其特征在于，该制作方法包括：在基底10上涂布一层导电光刻胶20，该导电光刻胶20包括光刻胶和导电浆；对该导电光刻胶20进行化学刻蚀并形成具有图案的凹槽21；该凹槽21的深度小于该导电光刻胶20的厚度；该导电光刻胶20厚度的取值范围为3-16um，该凹槽21深度的取值范围为2-15um；在该导电光刻胶20上形成一层金属层30，并在该金属层30上形成与该凹槽21对应的凸起31；将该金属层30与该导电光刻胶20进行剥离并得到具有图案的微纳模具40。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 苏州维业达科技有限公司 微纳模具及其制作方法

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