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【发明公布】图案形成方法、晶体管的制造方法和图案形成用部件_株式会社尼康_201880079273.6 

申请/专利权人:株式会社尼康

申请日:2018-12-11

公开(公告)日:2020-07-17

公开(公告)号:CN111433675A

主分类号:G03F7/004(20060101)

分类号:G03F7/004(20060101);C07F7/18(20060101);G03F7/09(20060101);G03F7/095(20060101);G03F7/20(20060101)

优先权:["20171213 JP 2017-238552"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2023.08.29#授权;2020.08.11#实质审查的生效;2020.07.17#公开

摘要:本发明提供一种图案形成方法,其是在对象物的被处理面上形成图案的图案形成方法,其包括下述工序:第1层形成工序,在上述被处理面上形成第1层,该第1层包含具有能够用酸分解、并且还能够用光分解的保护基团的化合物;第2层形成工序,在上述第1层上形成包含通过曝光而产生酸的光产酸剂的第2层;曝光工序,对上述第1层和上述第2层进行曝光,在上述第1层上形成由曝光区域和未曝光区域构成的潜像;以及配置工序,将图案形成材料配置在上述曝光区域或上述未曝光区域。

主权项:1.一种图案形成方法,其是在对象物的被处理面上形成图案的图案形成方法,其包括下述工序:第1层形成工序,在所述被处理面上形成第1层,该第1层包含具有能够用酸分解、并且还能够用光分解的保护基团的化合物,第2层形成工序,在所述第1层上形成包含通过曝光而产生酸的光产酸剂的第2层,曝光工序,对所述第1层和所述第2层进行曝光,在所述第1层上形成由曝光区域和未曝光区域构成的潜像,以及配置工序,将图案形成材料配置在所述曝光区域或所述未曝光区域。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 株式会社尼康 图案形成方法、晶体管的制造方法和图案形成用部件

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