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【发明公布】近零厚度纳米孔制备及DNA测序方法_中国科学院重庆绿色智能技术研究院_202010266327.9 

申请/专利权人:中国科学院重庆绿色智能技术研究院

申请日:2020-04-07

公开(公告)日:2020-07-24

公开(公告)号:CN111440855A

主分类号:C12Q1/6869(20180101)

分类号:C12Q1/6869(20180101)

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2020.08.18#实质审查的生效;2020.07.24#公开

摘要:本发明涉及一种近零厚度纳米孔制备及DNA测序方法,属于纳米技术领域。该方法包括以下步骤:S1:近零厚度纳米孔制备;S2:近零厚度纳米孔DNA单碱基识别。本发明基于近零厚度纳米孔具有亚纳米孔的高空间分辨率,而且可以通过大规模半导体的生产工艺来实现,所以其具有很强的创新性和实用性,能够极大地推动基于纳米孔的DNA测序技术和蛋白质检测技术开发,有着很大的基础研究价值和潜在的实际应用前景。

主权项:1.近零厚度纳米孔制备及DNA测序方法,其特征在于:该方法包括以下步骤:S1:近零厚度纳米孔制备;S2:近零厚度纳米孔DNA单碱基识别。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国科学院重庆绿色智能技术研究院 近零厚度纳米孔制备及DNA测序方法

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