申请/专利权人：HOYA株式会社

申请日：2020-03-04

公开（公告）日：2020-09-15

公开（公告）号：CN111665680A

主分类号：G03F1/72(20120101)

分类号：G03F1/72(20120101)

优先权：["20190307 JP 2019-041557"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.11.28#授权;2020.10.13#实质审查的生效;2020.09.15#公开

摘要：提供光掩模的修正方法、光掩模的制造方法、光掩模和显示装置的制造方法，提供即使辅助图案产生缺陷也不发生显示装置等电子器件的制造成品率或生产效率降低的光掩模的修正方法。转印用图案通过曝光而在被转印体上形成具有期望CD值的孔图案，包含由透光部构成的主图案11；配置在主图案11附近且具有利用曝光分辨不出的宽度且具有相移作用的辅助图案12；和在主图案11和辅助图案12以外的区域形成的低透光部13。通过进行下述步骤修正光掩模：确定步骤，辅助图案12产生了缺陷时，通过增减主图案11CD值，确定在被转印体上具有期望CD值的修正转印用图案的形状；和修正步骤，基于确定步骤中得到的形状，实施增减主图案11的CD值来修正为主图案111的修正加工。

主权项：1.一种光掩模的修正方法，其是对于在透明基板上具备转印用图案的光掩模的所述转印用图案中产生的缺陷进行修正的光掩模的修正方法，其特征在于，所述转印用图案是通过使用曝光装置的曝光而在被转印体上形成具有所期望的CD值的孔图案的图案，所述转印用图案包含：由透光部构成的主图案；配置在所述主图案的附近且具有利用所述曝光装置分辨不出的宽度的辅助图案；以及在所述主图案和所述辅助图案以外的区域形成的低透光部，所述辅助图案具有对于曝光光中包含的代表波长的光的透射率T1％，并且相对于所述主图案的透射光，所述辅助图案的透射光具有对于所述代表波长的光的大致180度的相位差，所述低透光部具有对于所述代表波长的光的透射率T2％，其中T2T1，该修正方法具有下述步骤：确定步骤，在所述辅助图案中产生了缺陷时，通过增减所述主图案的CD值，确定出修正转印用图案的形状，该修正转印用图案在利用所述曝光装置进行曝光的情况下在被转印体上形成具有所述所期望的CD值的所述孔图案；以及修正步骤，基于所述确定步骤中得到的形状，实施增减所述主图案的CD值的修正加工。

全文数据：

权利要求：

百度查询： HOYA株式会社 光掩模的修正方法、光掩模的制造方法、光掩模以及显示装置的制造方法

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