申请/专利权人：株式会社LG化学

申请日：2019-10-11

公开（公告）日：2020-09-15

公开（公告）号：CN111670177A

主分类号：C07C309/23(20060101)

分类号：C07C309/23(20060101);C07C321/10(20060101);G03F7/004(20060101);G03F7/032(20060101);G03F7/26(20060101)

优先权：["20181011 KR 10-2018-0120977"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2022.08.23#授权;2020.10.13#实质审查的生效;2020.09.15#公开

摘要：本说明书提供了化合物、包含其的光致抗蚀剂组合物、包含其的光致抗蚀剂图案和用于制备光致抗蚀剂图案的方法。

主权项：1.一种由以下化学式1表示的化合物：[化学式1] 其中，在化学式1中，p为2至4的整数；当p为2或更大时，括号中的取代基彼此相同或不同；当p为2时，X为S；经取代或未经取代的芳基；经取代或未经取代的杂芳基；或者经取代或未经取代的烷基；当p为3或4的整数时，X为经取代或未经取代的芳基；经取代或未经取代的杂芳基；或者经取代或未经取代的烷基；L1为直接键；经取代或未经取代的亚烷基；经取代或未经取代的亚芳基；或者经取代或未经取代的亚杂芳基；Rb为经取代或未经取代的烷基；经取代或未经取代的环烷基；经取代或未经取代的芳基；或者经取代或未经取代的杂芳基；Q+为阳离子；Y-为酸阴离子；以及m和n为1至10的整数。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 株式会社LG化学 化合物、包含其的光致抗蚀剂组合物、包含其的光致抗蚀剂图案和用于制备光致抗蚀剂图案的方法

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