申请/专利权人：信越化学工业株式会社

申请日：2023-10-13

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN117886728A

主分类号：C07C381/12

分类号：C07C381/12;C07C309/73;C07C309/71;C07C309/66;C07C309/65;C07D333/76;C07D333/54;C07D327/06;C07C211/63;C07C25/18;C07C309/12;C07D327/08;G03F7/004;G03F7/038

优先权：["20221014 JP 2022-165213"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.04.16#公开

摘要：本发明涉及鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优良且为高感度、高对比度、且EL、LWR等光刻性能优良的化学增幅抗蚀剂组成物所使用的鎓盐，以及提供含有该鎓盐作为光酸产生剂的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段是以下式1表示的鎓盐。

主权项：1.一种鎓盐，以下式1表示； 式中，n1为0或1；n2为1～3的整数；n3为1～4的整数；n4为0～4的整数；但，n1＝0时，n2+n3+n4≤5，n1＝1时，n2+n3+n4≤7；n5为0～4的整数；RAL为和相邻的氧原子一起形成的酸不稳定基团；I及-O-RAL键结于互相相邻的碳原子；R1为也可含有杂原子的碳数1～20的烃基；LA及LB分别独立地为单键、醚键、酯键、磺酸酯键、碳酸酯键或氨基甲酸酯键；XL为单键或也可含有杂原子的碳数1～40的亚烃基；Q1及Q2分别独立地为氢原子、氟原子或碳数1～6的氟化饱和烃基；Q3及Q4分别独立地为氟原子或碳数1～6的氟化饱和烃基；Z+为鎓阳离子。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 信越化学工业株式会社 鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法

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