申请/专利权人：东京毅力科创株式会社

申请日：2020-05-08

公开（公告）日：2020-11-17

公开（公告）号：CN111952216A

主分类号：H01L21/67(20060101)

分类号：H01L21/67(20060101)

优先权：["20190517 JP 2019-093780"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2022.03.08#实质审查的生效;2020.11.17#公开

摘要：本发明提供一种干燥装置、基板处理系统以及干燥方法。提供一种能够在基板的干燥时抑制凹凸图案的图案倒塌的技术。一种干燥装置，其是在利用液膜覆盖了基板的形成有凹凸图案的上表面之后使所述基板干燥的干燥装置，其具有：第1传热部，其被温度调整为第1温度，利用温度差在其与所述基板之间传递热；第2传热部，其被温度调整为与所述第1温度不同的第2温度，利用温度差在其与所述基板之间传递热；以及控制部，其控制所述第1温度和所述第2温度，而控制所述液膜的表面张力分布，从而控制所述液膜的凝聚。

主权项：1.一种干燥装置，其是在利用液膜覆盖了基板的形成有凹凸图案的上表面之后使所述基板干燥的干燥装置，其中，该干燥装置具有：第1传热部，其被温度调整为第1温度，利用温度差在其与所述基板之间传递热；第2传热部，其被温度调整为与所述第1温度不同的第2温度，利用温度差在其与所述基板之间传递热；以及控制部，其控制所述第1温度和所述第2温度，而控制所述液膜的表面张力分布，从而控制所述液膜的凝聚。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 东京毅力科创株式会社 干燥装置、基板处理系统以及干燥方法

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