申请/专利权人:王志煌
申请日:2019-07-03
公开(公告)日:2021-01-05
公开(公告)号:CN112180669A
主分类号:G03B21/28(20060101)
分类号:G03B21/28(20060101);G03B21/14(20060101)
优先权:
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2021.01.22#实质审查的生效;2021.01.05#公开
摘要:一种投影装置,包括沿光轴排列的中继光学系统以及反射光学系统﹔该反射光学系统包括有反射元件以及至少一个透镜;该至少一个透镜位于该反射元件以及该中继光学系统之间,且具有相背对的第一光学面及第二光学面,而该第二光学面面对该中继光学系统﹔其中,当该影像光束通过该中继光学系统后,该影像光束自该第二光学面射入该至少一个透镜,并从该第一光学面入射至该反射元件的一反射面,经该反射面反射后通过该至少一个透镜,再从该第二光学面离开该至少一个透镜后,往该成像面的方向投射,该反射元件及该至少一个透镜之有效径皆位于该光轴的同一侧。
主权项:1.一种投影装置,用以接收一影像光源产生装置产生的一影像光束并往一成像面的方向投射,所述投影装置包括有:沿一光轴排列的一中继光学系统以及一反射光学系统﹔所述中继光学系统用以接收所述影像光束并供所述影像光束通过﹔所述反射光学系统包括有一反射元件以及至少一个透镜,且所述至少一个透镜位于所述反射元件以及所述中继光学系统之间,并具有相背对的一第一光学面以及一第二光学面,而所述第二光学面面对所述中继光学系统﹔其中,当所述影像光束通过所述中继光学系统后,所述影像光束自所述第二光学面射入所述至少一个透镜,并从所述第一光学面入射至所述反射元件的一反射面,经所述反射面反射后通过所述至少一个透镜,再从所述第二光学面离开所述至少一个透镜,并往所述成像面的方向投射﹔其中,于平行于光轴的方向上,所述反射元件与所述至少一个透镜于所述光轴上之距离小于所述至少一个透镜与所述中继光学系统于所述光轴上之距离,且所述反射元件与所述至少一个透镜于所述光轴上之距离大于或等于0;其中,以所述光轴的一延伸面区分为一第一部与一第二部,所述影像光束从所述第一部入射至所述反射光学系统中,且所述影像光束从所述第二光学面离开所述至少一个透镜后,系经由所述第二部往所述成像面的方向投射;此外,所述中继光学系统之有效径系同时位于所述第一部与所述第二部,而所述反射元件与所述至少一个透镜的有效径位于所述第一部,未延伸至所述第二部。
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