申请/专利权人：ASML荷兰有限公司

申请日：2019-05-28

公开（公告）日：2021-02-19

公开（公告）号：CN112384863A

主分类号：G03F7/20(20060101)

分类号：G03F7/20(20060101)

优先权：["20180705 EP 18182013.5"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2021.07.23#实质审查的生效;2021.02.19#公开

摘要：光刻装置包括：投影系统，被配置为经由投影路径将图案化的辐射束投影到保持在衬底台上的衬底处的曝光区上，该衬底台在投影系统下方的区域中是可移动的；以及冷却装置，被配置为经由从衬底到冷却元件的热传递来冷却衬底，冷却元件位于衬底上方并且与投影路径相邻；其中冷却装置包括位于投影路径中的隔膜系统，以将投影系统与该区域物理地分离。

主权项：1.一种光刻装置，包括：投影系统，被配置为经由投影路径将图案化的辐射束投影到保持在衬底台上的衬底处的曝光区上，所述衬底台在所述投影系统下方的区域中是可移动的；以及冷却装置，被配置为经由从所述衬底到冷却元件的热传递来冷却所述衬底，所述冷却元件位于所述衬底上方并且与所述投影路径相邻；其中所述冷却装置包括位于所述投影路径中的隔膜系统，以将所述投影系统与所述区域物理地分离。

全文数据：

权利要求：

百度查询： ASML荷兰有限公司 光刻装置和冷却装置

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