申请/专利权人：ASML荷兰有限公司

申请日：2019-06-27

公开（公告）日：2021-04-09

公开（公告）号：CN112639623A

主分类号：G03F9/00(20060101)

分类号：G03F9/00(20060101)

优先权：["20180820 EP 18189668.9"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2021.04.27#实质审查的生效;2021.04.09#公开

摘要：一种用于测量衬底上的多个对准标记中的每一个对准标记的位置的设备，包括：照射系统，配置成将来自辐射源的辐射束引导到所述衬底上的多个对准标记上；投影系统，配置成投影来自所述衬底的多个对准标记的图像，所述多个对准标记的图像是由所述辐射束从所述多个对准标记的衍射产生的；光学块，配置成调制来自所述衬底的被投影的多个对准标记的图像，并且其中所述光学块配置成将多个对准标记的被调制的图像投影到感测元件上以产生信号，多个对准标记中的每一个对准标记的位置根据所述信号被并行地确定。

主权项：1.一种用于测量衬底上的多个对准标记中的每一个对准标记的位置的设备，包括：照射系统，所述照射系统被配置成将辐射束引导到所述衬底上的所述多个对准标记上，投影系统，所述投影系统被配置成投影来自所述衬底的所述多个对准标记的图像，所述多个对准标记的图像是由所述辐射束从所述多个对准标记的衍射产生的；光学块，所述光学块被配置成调制来自所述衬底的被投影的所述多个对准标记的图像，并且其中所述光学块被配置成将所述多个对准标记的被调制的图像投影到感测元件上，所述感测元件被配置成产生信号，所述多个对准标记中的每一个对准标记的位置根据所述信号被并行地确定。

全文数据：

权利要求：

百度查询： ASML荷兰有限公司 用于测量对准标记的位置的设备和方法

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