申请/专利权人：上海伟钊光学科技股份有限公司

申请日：2020-08-03

公开（公告）日：2021-04-13

公开（公告）号：CN212965498U

主分类号：G02B5/30(20060101)

分类号：G02B5/30(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2021.04.13#授权

摘要：本实用新型实施例提供一种胶合波片，包括波片、胶层和衬底，所述胶层位于所述波片与衬底之间；其中，所述波片被配置为改变入射其上的光束的偏振特性。本实用新型实施例提供一种胶合波片，胶合波片不易破碎，降低了加工难度，且在裂片形成小粒之前，可以增加胶合波片的面积，因此在裂片之后，可以一次性形成更多的小粒，提高了产能，降低价格，同时易于后续的贴装使用。

主权项：1.一种胶合波片，其特征在于，包括波片、胶层和衬底，所述胶层位于所述波片与衬底之间；其中，所述波片被配置为改变入射其上的光束的偏振特性；所述波片为零级波片。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 上海伟钊光学科技股份有限公司 一种胶合波片

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD