申请/专利权人：深圳活力激光技术有限公司

申请日：2020-06-24

公开（公告）日：2021-04-27

公开（公告）号：CN213069367U

主分类号：G02B27/28(20060101)

分类号：G02B27/28(20060101);G02B27/10(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2021.04.27#授权

摘要：本实用新型公开了一种防光反馈的高功率激光双光束偏振合束加工光源系统，包括：第一激光光源，用于发射第一出射光；第一偏振片，设置于所述第一激光光源出光侧；第一波长片，设置于所述第一偏振片远离所述第一激光光源的一侧；第二激光光源，用于发射第二出射光，且与所述第一激光光源的出光方向垂直；第二偏振片，设置于所述第二激光光源出光侧；第二波长片，设置于所述第二偏振片远离所述第二激光光源的一侧；偏振合束片，设置于所述第一出射光和所述第二出射光的相交处。通过偏振合束片合束两个偏振态的激光，使激光的合束功率加倍，并分别滤除两束激光的反馈光，实现对激光芯片的保护。

主权项：1.一种防光反馈的高功率激光双光束偏振合束加工光源系统，其特征在于，包括：第一激光光源，用于发射第一出射光；第一偏振片，设置于所述第一激光光源出光侧，所述第一偏振片对TE波透射对TM波反射；第一波长片，设置于所述第一偏振片远离所述第一激光光源的一侧，用于使经过所述第一波长片的光偏振方向旋转45度；第二激光光源，用于发射第二出射光，且所述第二激光光源的出光方向与所述第一激光光源的出光方向垂直；第二偏振片，设置于所述第二激光光源出光侧，所述第二偏振片对TM波透射对TE波反射；第二波长片，设置于所述第二偏振片远离所述第二激光光源的一侧，用于使经过所述第二波长片的光偏振方向旋转45度；以及偏振合束片，设置于所述第一出射光和所述第二出射光的相交处，使所述第一出射光透射且所述第二出射光反射后形成合束光；所述合束光经加工件反射后形成的反馈光经所述偏振合束片分束后形成第一反馈光和第二反馈光；所述第一反馈光经过所述第一波长片后被所述第一偏振片反射；所述第二反馈光经过所述第二波长片后被所述第二偏振片反射。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 深圳活力激光技术有限公司 防光反馈的高功率激光双光束偏振合束加工光源系统

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