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【发明公布】气体供应系统及其气体输送方法、等离子体处理装置_中微半导体设备(上海)股份有限公司_201911243135.X 

申请/专利权人:中微半导体设备(上海)股份有限公司

申请日:2019-12-06

公开(公告)日:2021-06-08

公开(公告)号:CN112928008A

主分类号:H01J37/32(20060101)

分类号:H01J37/32(20060101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2023.03.24#授权;2021.06.25#实质审查的生效;2021.06.08#公开

摘要:本申请实施例公开了一种气体供应系统,包括多个气体输入管路和气体输出管路,所述气体输入管路包括并联的第一气体输出支路和第二气体输出支路,所述气体输出管路包括第一气体输出管路和第二气体输出管路,所述第一气体输出管路的输出端与所述第二气体输出管路的输入端相连,第二气体输出管路的输出端用于给等离子体处理设备的腔室输送气体,第一气体输出管路与多个气体输入管路中的第一气体输出支路的输出端相连通,第二气体输出管路与所多个气体输入管路中的第二气体输出支路的输出端相连通,从而在多个气体输入管路中输出不同流量需求的第一气体和第二气体时,以解决小流量需求的第二气体对等离子体处理工艺过程的改善效果较为有限的问题。

主权项:1.一种气体供应系统,用于给等离子体处理设备的腔室输送气体,其特征在于,该气体供应系统包括:多个气体输入管路,所述气体输入管路包括并联的第一气体输出支路和第二气体输出支路;气体输出管路,所述气体输出管路包括第一气体输出管路和第二气体输出管路,所述第一气体输出管路的输出端与所述第二气体输出管路的输入端相连,所述第二气体输出管路的输出端用于给所述等离子体处理设备的腔室输送气体;与所述气体输入管路一一对应的控制元件,所述控制元件包括控制所述第一气体输出支路通断的第一控制元件以及控制所述第二气体输出支路通断的第二控制元件;其中,所述第一气体输出管路与所述多个气体输入管路中的第一气体输出支路的输出端相连通,所述第二气体输出管路与所述多个气体输入管路中的第二气体输出支路的输出端相连通;所述多个气体输入管路包括第一气体输入管路和第二气体输入管路,所述第一气体输入管路中输出第一气体,所述第二气体输入管路中输出第二气体,所述第一气体的流量需求大于所述第二气体的流量需求,所述第一气体通过所述第一气体输入管路中的第一气体输出支路输出至所述气体输出管路。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中微半导体设备(上海)股份有限公司 气体供应系统及其气体输送方法、等离子体处理装置

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