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【发明公布】非易失性存储单元、非易失性存储单元阵列及其制造方法_合肥睿科微电子有限公司_202080012917.7 

申请/专利权人:合肥睿科微电子有限公司

申请日:2020-06-09

公开(公告)日:2021-09-21

公开(公告)号:CN113424318A

主分类号:H01L27/115(20170101)

分类号:H01L27/115(20170101)

优先权:["20190617 US 62/862,307","20191030 US 16/669,391"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2022.09.27#授权;2022.04.26#实质审查的生效;2021.09.21#公开

摘要:一种非易失性存储单元,包括:底电极;含导电材料的顶电极;设于所述底电极和所述顶电极之间的电阻层;以及覆盖所述顶电极和所述电阻层侧面的侧面部分。该侧面部分含所述导电材料的氧化物。所述非易失性存储单元还包括设于所述顶电极上的接触导线。所述接触导线的宽度小于所述侧面部分的外侧面间宽度。

主权项:1.一种非易失性存储单元,其特征在于,包括:一底电极;含导电材料的一顶电极;一电阻层,设于所述底电极和所述顶电极之间;侧面部分,覆盖所述顶电极和所述电阻层的侧面,所述侧面部分包括所述导电材料的氧化物;以及一接触导线,设于所述顶电极上,其中,所述接触导线的宽度小于所述侧面部分的外侧面之间的宽度。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 合肥睿科微电子有限公司 非易失性存储单元、非易失性存储单元阵列及其制造方法

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