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【发明授权】掩膜板及其制作方法、OLED显示基板的制作方法_京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司_201910690971.6 

申请/专利权人:京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司

申请日:2019-07-29

公开(公告)日:2021-09-21

公开(公告)号:CN110453173B

主分类号:C23C14/04(20060101)

分类号:C23C14/04(20060101);C23C14/12(20060101);C23C14/24(20060101);H01L51/00(20060101);H01L51/56(20060101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2021.09.21#授权;2019.12.10#实质审查的生效;2019.11.15#公开

摘要:本发明提供一种掩膜板及其制作方法、OLED显示基板的制作方法,该掩膜板包括:掩膜板本体,所述掩膜板本体上开设有多个蒸镀孔;多个阻挡环,设置于所述掩膜板本体上,与所述多个蒸镀孔一一对应,围设在对应的所述蒸镀孔的周围。当采用本发明的掩膜板向待蒸镀基板蒸镀有机发光材料时,在蒸镀过程中,从蒸镀孔内通过的有机发光材料会被阻挡环阻挡,减少或者避免有机发光材料向蒸镀孔正对区域以外的区域扩散,减少了蒸镀阴影的面积,从而可避免相邻的不同颜色的有机发光层交叉污染。

主权项:1.一种掩膜板,其特征在于,包括:掩膜板本体,所述掩膜板本体上开设有多个蒸镀孔;多个阻挡环,设置于所述掩膜板本体上,与所述多个蒸镀孔一一对应,围设在对应的所述蒸镀孔的周围;所述掩膜板本体和所述阻挡环采用相同的材料;所述掩膜板还包括:多个刻蚀阻挡层图形,与所述多个阻挡环一一对应,设置于对应的所述阻挡环与所述掩膜板本体之间,所述刻蚀阻挡层图形在所述掩膜板本体上的正投影与对应的所述阻挡环在所述掩膜板本体上的正投影重叠。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司 掩膜板及其制作方法、OLED显示基板的制作方法

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