申请/专利权人：ASML荷兰有限公司

申请日：2017-04-04

公开（公告）日：2021-11-05

公开（公告）号：CN113608414A

主分类号：G03F7/20(20060101)

分类号：G03F7/20(20060101);H05G2/00(20060101)

优先权：["20160425 US 15/137,933"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2021.11.23#实质审查的生效;2021.11.05#公开

摘要：向真空室的内部提供第一目标，朝向第一目标引导第一光束以从第一目标的目标材料形成第一等离子体，第一等离子体与沿着第一发射方向从第一目标发射的粒子和辐射的方向通量相关联，第一发射方向由第一目标的定位确定；向真空室的内部提供第二目标；并且朝向第二目标引导第二光束以从第二目标的目标材料形成第二等离子体，第二等离子体与沿着第二发射方向从第二目标发射的粒子和辐射的方向通量相关联，第二发射方向由第二目标的定位，第一和第二发射方向不同。

主权项：1.一种减小等离子体对极紫外EUV光源的真空室中的物体的影响的方法，所述方法包括：在所述真空室中修改初始目标以形成经修改的目标，所述初始目标包括呈初始几何分布的目标材料，并且所述经修改的目标包括呈不同的经修改的几何分布的目标材料；以及朝向所述经修改的目标引导光束，所述光束具有足以将所述经修改的目标中的目标材料中的至少一些目标材料转换成发射EUV光的等离子体的能量，所述等离子体与粒子和辐射的方向相关通量相关联，所述方向相关通量具有相对于所述经修改的目标的角度分布，所述角度分布取决于所述经修改的目标的定位，使得将所述经修改的目标定位在所述真空室中减小了所述等离子体对所述物体的影响。

全文数据：

权利要求：

百度查询： ASML荷兰有限公司 提供目标至极紫外光源的目标区域的方法

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