申请/专利权人：中国人民解放军国防科技大学

申请日：2022-05-27

公开（公告）日：2022-08-30

公开（公告）号：CN114952437A

主分类号：B24B1/00

分类号：B24B1/00;C09G1/02

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.08.18#授权;2022.09.16#实质审查的生效;2022.08.30#公开

摘要：本发明公开了一种NiP改性层的加工方法，包括以下步骤：S1、对NiP改性层表面进行磁流变修形；S2、将NiP改性层表面进行自动保形光顺；S3、对NiP改性层表面的面形误差和表面粗糙度进行检测，若不满足指标要求则跳转执行步骤S1，否则加工结束，完成对NiP改性层的加工处理。本发明中，通过对NiP改性层表面进行磁流变修形和自动保形光顺，可实现对反射镜表面NiP改性层的确定性修形，同时获得高质量的抛光表面，在有效提升NiP改性层的面形精度和表面质量的同时也能显著提升工艺可重复性，满足光学器件在短波长光谱领域的应用需求，使用价值高，应用前景好，对促进NiP改性层在光学领域的广泛应用具有重要意义。

主权项：1.一种NiP改性层的加工方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、对NiP改性层表面进行磁流变修形；S2、将NiP改性层表面进行自动保形光顺；S3、对NiP改性层表面的面形误差和表面粗糙度进行检测，若不满足指标要求则跳转执行步骤S1，否则加工结束，完成对NiP改性层的加工处理。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国人民解放军国防科技大学 NiP改性层的加工方法

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