申请/专利权人：东京毅力科创株式会社

申请日：2016-06-02

公开（公告）日：2022-09-23

公开（公告）号：CN115101447A

主分类号：H01L21/67

分类号：H01L21/67;H01L21/027

优先权：["20150602 US 62/170,024"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2022.10.14#实质审查的生效;2022.09.23#公开

摘要：本发明公开了用于旋涂碳平坦化的技术，其中描述了用于SOC平坦化的系统和方法。在实施例中，用于SOC平坦化的设备包括被配置成支承微电子衬底的衬底保持器。另外，该设备可以包括被配置成朝向微电子衬底的表面发射紫外UV光的光源。在实施例中，该设备还可以包括布置在光源和微电子衬底之间的隔离窗。此外，该设备可以包括被配置成在隔离窗与微电子衬底之间的区域中注入气体的气体分配单元。另外，该设备可以包括被配置成降低微电子衬底的UV光处理的不均匀性的回蚀调平部件。

主权项：1.一种用于衬底处理的设备，包括：衬底保持器，其被配置成支承微电子衬底；光源，其被配置成朝向所述微电子衬底的表面发射紫外UV光；隔离窗，其被布置在所述光源与所述微电子衬底之间；气体分配单元，其被配置成在所述隔离窗与所述微电子衬底之间的区域中注入气体；以及回蚀调平部件，其被配置成降低所述微电子衬底的UV光处理的不均匀性；红外加热元件阵列，其被配置为在所述微电子衬底的背侧提供能量，其中所述微电子衬底被悬挂在所述红外加热元件阵列的上方，其中所述红外加热元件阵列中的每个红外加热元件被配置为被独立调节，其中，所述气体分配单元被配置成与所述光源同时移动，其中，所述隔离窗联接至所述光源，并且所述隔离窗被配置成与所述光源一起相对于所述微电子衬底移动。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 东京毅力科创株式会社 用于旋涂碳平坦化的技术

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