申请/专利权人：南京真合材料科技有限公司

申请日：2022-07-27

公开（公告）日：2022-09-27

公开（公告）号：CN115110033A

主分类号：C23C14/06

分类号：C23C14/06;C23C14/16;C23C14/32;C23C14/35

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.01.23#授权;2022.10.18#实质审查的生效;2022.09.27#公开

摘要：本发明公开了一种超硬膜层制造方法。本发明采用Cr靶、Ti靶、W靶作为靶材制备膜层，按不同的膜层硬度进行交替成膜。使用多弧沉积膜层和磁控溅射沉积交替制备超硬膜，形成软硬膜层交替生长，有利于形成高密度位错，有效阻止晶面滑移，有利于膜层组成元素扩散，改善了内应力集中现象，提高了超硬膜的总体强度，硬度。通过改良膜层组织结构达到提高显微硬度的效果，避免单纯依靠膜厚提高性能，节省生产时间与资源，有较好的经济与社会效益。

主权项：1.一种超硬膜层制造方法，其特征在于：该方法包括以下步骤：步骤一：弧靶轰击清洗：S11：取基材，清洗，烘干，得到处理后的基材，通入氩气，气压为1.5×10-1Pa，开Cr弧靶，电流为55-70A，对处理后的基材进行轰击清洗；S12：清洗结束，关Cr弧靶；步骤二：制备纯金属底层：S21：开Cr靶打底层，沉积6-8min；S22：开Ti靶预启动，沉积2-3min；S23：开W靶预启动，沉积2-3min；步骤三：制备硬化层：S31：通入乙炔，将乙炔气量由20-30sccm升至80-90sccm，保持10-12分钟，偏压为100-200V；降乙炔气量至20-30sccm；S32：重复步骤S314-6次，降乙炔气量至30-40sccm，关Ti靶，Cr靶；步骤四：制备加硬层：保持W靶开启，电流为10-20A，开Cr弧靶，沉积8-10min；步骤五：制备颜色层：关Cr弧靶，保持W靶开启，沉积颜色层，偏压为100-200V。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 南京真合材料科技有限公司 一种超硬膜层制造方法

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