申请/专利权人：西北有色金属研究院

申请日：2022-11-29

公开（公告）日：2023-03-14

公开（公告）号：CN115786851A

主分类号：C23C14/16

分类号：C23C14/16;C23C14/35;C22C30/00;C22C45/04;C23C14/54;B82Y30/00;B82Y40/00

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2023.03.31#实质审查的生效;2023.03.14#公开

摘要：本发明公开了一种制备高硬度双相结构中熵合金薄膜的方法，采用直流磁控溅射的方法，选用中熵合金CrCoNi靶材，在衬底上沉积制备中熵合金薄膜，该中熵合金薄膜具有纳米晶和非晶混合的双相结构。本发明采用直流磁控溅射的方法，选用中熵合金CrCoNi靶材，在衬底上沉积制备CrCoNi中熵合金薄膜，通过调控直流磁控溅射的工艺参数，对中熵合金薄膜的结构及性能进行优化，获得具有纳米晶和非晶混合的双相结构，且CrCoNi中熵合金薄膜中各元素分布均匀，表面粗糙度小，薄膜结构均匀致密，提高了中熵合金薄膜的硬度，该方法工艺简单方便，制备效率较高。

主权项：1.一种制备高硬度双相结构中熵合金薄膜的方法，其特征在于，采用直流磁控溅射的方法，选用质量纯度为99.99％以上的中熵合金CrCoNi靶材，在衬底上沉积制备中熵合金薄膜；所述中熵合金CrCoNi靶材中各元素为近等原子比：Cr33at％，Co34at％，Ni33at％；所述中熵合金薄膜具有纳米晶和非晶混合的双相结构，中熵合金薄膜的硬度为12.92GPa～15.42GPa。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 西北有色金属研究院 一种制备高硬度双相结构中熵合金薄膜的方法

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